ナノリソティックス株式会社（以下、NLT）は、株式会社オプトラン、AIメカテック株式会社の出資により、両社が持つナノインプリント技術・光学薄膜成膜加工技術の融合によるナノインプリントリソグラフィー量産技術の提供を目的に2023年7月３日に設立いたしました。

同年9月に半導体材料トップメーカーであるJSR株式会社へ第三者割当増資を実施し、装置開発のみならず、材料から装置開発までの一貫したOne Stop Solutionを提供できる体制を構築いたしました。また、埼玉県鶴ヶ島市にNLT専用のクリーンルームを完備したデモセンターを設置し、各種デモ環境を整えるとともにお客様の多様なニーズに迅速に対応してまいります。

生成AI革命により、データセンターにおける機器の計算処理が増加し、データセンターやネットワーク関連機器の消費電力・発熱量増加が問題となっております。その問題解決策として、より高速で大容量かつ低消費電力な光データ伝送が可能となる光電融合技術が注目されており、当社は光電融合技術を中心とした光半導体市場を開拓いたします。
また、現実世界と仮想世界を融合し、新しい体験を創造する技術であるXR※1への技術貢献やディスプレイへのアンチグレア技術※2の提供といった先端分野への研究開発にも注力いたします。

オプトラン・AIメカテック・JSRの3社技術融合により光半導体市場を開拓し、スマート社会の課題解決を図るとともに、One Stop Solutionをコンセプトに技術革新をリードし、お客様の価値創造の実現に取り組んでまいります。

今後とも皆さまの変わらぬご支援を賜りますよう、よろしくお願い申し上げます。

代表取締役阿部　猪佐雄

• ※1 XRとは、VR（仮想現実）、AR（拡張現実）、MR（複合現実）などの先端技術の包括的な総称
• ※2 アンチグレア技術とは、ディスプレイなどの表示面の光を拡散させ、反射を抑えて眩しさを低減する処理・加工